Одна из основных преимуществ маскировочной литографии на рентгеновских лучах заключается в том, что она позволяет производить схемы более высокого … .

Английский язык Колледж Нанотехнологии преимущества маскировочной литографии рентгеновские лучи схемы более высокого качества Новый

Ответ: resolution

Объяснение:

Вопрос касается одной из ключевых особенностей технологии маскировочной литографии на рентгеновских лучах. Эта технология действительно позволяет создавать схемы с более высоким разрешением. Разрешение в данном контексте означает уровень детализации, который можно достичь при производстве микросхем и других электронных компонентов.

Когда мы говорим о "высоком разрешении", мы имеем в виду, что можно создавать более мелкие и сложные структуры на микросхемах. Это особенно важно в современных технологиях, где размеры элементов продолжают уменьшаться, и требуется высокая точность для обеспечения их функционирования.

Таким образом, правильный ответ на вопрос - это "resolution", что подтверждает, что рентгеновская маскировочная литография действительно предоставляет значительные преимущества в производстве высококачественных схем.